Читать онлайн «Просветляющие покрытия в оптоэлектронике. Проектирование, материалы, особенности технологии: Лабораторная работа по курсу ''Физико-химические основы технологии''»

ФЕДЕРАЛЬНОЕ АГЕНТСТВО ПО ОБРАЗОВАНИЮ РФ ГОСУДАРСТВЕННОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ПРОФЕССИОНАЛЬНОГО ОБРАЗОВАНИЯ «НИЖЕГОРОДСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ им. Н. И. ЛОБАЧЕВСКОГО» ФИЗИЧЕСКИЙ ФАКУЛЬТЕТ Кафедра физики полупроводников и оптоэлектроники ПРОСВЕТЛЯЮЩИЕ ПОКРЫТИЯ В ОПТОЭЛЕКТРОНИКЕ. ПРОЕКТИРОВАНИЕ, МАТЕРИАЛЫ, ОСОБЕННОСТИ ТЕХНОЛОГИИ (лабораторная работа по курсу «Физико-химические основы технологии») Нижний Новгород, 2007  2 Учебно-методические материалы подготовлены в рамках инновационной образовательной программы ННГУ: Образовательно-научный центр «Новые многофункциональные материалы и нанотехнологии» Национального проекта «Образование» УДК 621. 315. 592:61 Просветляющие покрытия в оптоэлектронике. Проектирование, материалы, особенности технологии: Лабораторная работа по курсу «Физико- химические основы технологии» / Сост. А. В. Ершов, А. И. Машин. – Н. Нов- город: ННГУ, 2007. – 28 с. Настоящее описание предназначено для студентов старших курсов физиче- ского факультета ННГУ, обучающихся по специальности 210601 – «Нанотех- нология в электронике». Рис. 7. Табл. 1. Составители: канд. физ. -мат. наук, доцент А. В. Ершов докт. физ. -мат. наук, профессор А. И. Машин Рецензент: канд. физ. -мат. наук, науч. сотр. НИФТИ ННГУ А. Н. Михайлов Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского, 2007  3 ВВЕДЕНИЕ Просветление поверхностей элементов оптических систем использует- ся по двум причинам. Во-первых, − для уменьшения потерь интенсивности падающего излучения на отражение, т. е. увеличения пропускной способно- сти оптического элемента. Это особенно актуально сейчас при разработке различных фотоприемных устройств, в частности солнечных элементов. Во- вторых, если на плоскость изображения попадает свет, претерпевший много- кратные отражения от поверхностей элементов (так называемые “блики”), то это приводит к уменьшению контраста и четкости изображения. Создание антибликовых покрытий за счет их просветления особенно актуально при разработке устройств отображения информации: электровакуумных монито- ров, кинескопов, а также входных оптических систем фото- и видеоаппарату- ры [1]. На рис. 1 приведены зависимости вычисленного по формуле Френеля [2] коэффициента отражения R на границе раздела сред воздух−вещество и коэффициента пропускания Т плоскопараллельной пластинки из того же ве- щества от показателя преломления вещества n. Этот рисунок красноречиво показывает, насколько велики могут быть потери на отражение оптических систем из различных материалов, которые в реальных случаях могут быть гораздо выше для более чем одной пластины из разных веществ. 100 80 1− R T= ; T 1+ R T R % 60 2 40 1 − n  R=  R 1 + n  20 0 1 2 3 4 5 6 n Рис. 1.