Министерство образования Российской Федерации УДК 538. 945
Ф81
Омский государственный университет
Рекомендован к изданию учебно-методическим советом ОмГУ. Протокол № 1 от 28 апреля 2004 г. Ф81 Фотолитографический метод создания тонкопленочных
ВТСП структур: Лабораторный практикум (для студентов физи-
ческого факультета) / Сост. : С. А. Сычев, Г. М. Серопян, И. С. По-
зыгун, В. В. Семочкин. – Омск: Омск.
гос. ун-т, 2004. – 27 с. Фотолитографический метод создания Материал соответствует Государственному образовательному
тонкопленочных ВТСП структур стандарту по специальности 010400 «Физика». Даются представления
о фотолитографическом методе создания тонкопленочных структур с
Лабораторный практикум использованием метода сухого травления и, в частности, микро-
(для студентов физического факультета) структур из тонких ВТСП пленок для изготовления элементов сверх-
проводящей криоэлектроники. специальность 010400 «Физика» Может быть использован студентами других специальностей. УДК 538. 945
© Омский госуниверситет, 2004
Издание Омск
ОмГУ 2004
2
Фотолитографический метод создания ной диффузии, эпитаксии и ионной имплантации, глубинное
тонкопленочных ВТСП структур травление в полупроводниковых и диэлектрических подлож-
ках и т. д. ;
Цель работы: создание тонкопленочных ВТСП микрострук- 3) возможность применения групповой технологии (за одну опе-
тур, в частности, сквид-геометрии методом фотолитографии и сухо- рацию и на одном виде оборудования – получение сотен и ты-
го травления. сяч элементов интегральных микросхем и дискретных полу-
Приборы и принадлежности: центрифуга для нанесения фото- проводниковых приборов). резиста, фоторезист ФП 20Ф, источник ультрафиолетового излуче-
ния, фотошаблон (маска), пипетка, термометр, барометр, вакуумный Оптическая литография объединяет в себе такие области нау-
насос, ртутный манометр, ячейка травления, химические реагенты, ки, как оптика, механика и фотохимия.